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蒸着（じょうちゃく、deposition）とは、金属などを蒸発させて、素材の表面に付着させる表面処理あるいは薄膜を形成する方法の一種。蒸着は、物理蒸着（PVD）と化学蒸着（CVD）に大別される。
次にPVDの一種である真空蒸着を解説する。
[編集] 真空蒸着の原理
真空にした容器の中で、蒸着材料を加熱し気化もしくは昇華して、離れた位置に置かれた基板の表面に付着させ、薄膜を形成するというものである。蒸着材料、基板の種類により、抵抗加熱、電子ビーム、高周波誘導、レーザーなどの方法で加熱される。蒸着材料は、アルミニウム、亜鉛、金、銀、プラチナ、ニッケルなどの金属類と光学特性を有する薄膜では主にSiO2、TiO2、ZrO2などの酸化物を使用する。蒸着は金属の他、樹脂等にも利用される。
成膜する際に基板や蒸着材料によってはＲＦプラズマやイオン銃照射により蒸着前処理を施す事により密着性を向上できる。しかし、被蒸着物が樹脂の場合はこの前処理を行った場合逆効果になる物があるため被蒸着物の内容が明らかでない場合は、予め調査する必要もある。
容器を真空にする理由は、蒸着材料の分子が基板に達する前に、容器内の残存気体分子に衝突することを防止するためと、蒸着材料の蒸発温度を下げて蒸着を容易にするためである。10-3～10-4 Pa程度の真空度が必要とされる。真空のためには真空ポンプが用いられる。
[編集] 真空蒸着の用途
光学薄膜（メガネやレンズの反射防止膜、特殊ミラーなど）、磁気テープ（オーディオテープやビデオテープなど）、ディスプレイ構成の電極・半導体膜・絶縁膜など（プラズマディスプレイや有機EL、液晶ディスプレイなど）、電子部品(抵抗やコンデンサ、半導体集積回路など）、食品包装材（スナック菓子などの袋に用いられているアルミ蒸着フィルムなど）、ファッション素材や建材などがあり、様々な分野に広く利用されている。電子顕微鏡の標本を作成する際にも用いられる。
[編集] 真空蒸着の歴史
1857年にマイケル・ファラデーが基本原理のもと最初に行ったとされる。後、1930年代には油拡散式真空ポンプの実用化により、主にレンズの反射防止膜の作成に使用されるようになる。第二次世界大戦では、他の光学機器の需要が高まり、真空蒸着も発展を遂げる。
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